真空电镀可以在低成本的前提下,可以将廉价材料(如ABS)的表面处理成金属表面的效果
真空电镀的工件表面保持干燥光滑,否则将极大的影响表面效果
真空电镀的尺寸不仅受真空腔室体积的影响,还取决于工件本身的尺寸,例如板材应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft),3D工件应小于1.2 * 0.5m(3.94 * 1.6ft)
真空电镀非常依赖人工操作,真空电镀过程中,工件需要喷涂,装载,卸载和再喷涂,所以人力成本相当高,但是也取决于工件的复杂度和数量。真空电镀对环境污染很小,类似于喷涂对环境的影响
真空电镀:Vacuum Metalizing,即是物理气相沉积(PVD),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
真空镀膜的方法材料:
(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。
(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的ya离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。
(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
光学镀膜方法材料
(1)氟化镁:无色四方晶系粉末,纯度高,用其制光学镀膜可提高透过率,不出崩点。
(2)二氧化硅:无色透明晶体,熔点高,硬度大,化学稳定性好。纯度高,用其制备高质量Si02镀膜,蒸发状态好,不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
(3)氧化锆:白色重质结晶态,具有高的折射率和耐高温性能,化学性质稳定,纯度高,用其制备高质量氧化锆镀膜,不出崩点。
它是将镀膜材料置于真空镀膜室内,通过蒸发源使其加热蒸发。当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的尺寸后,蒸发的粒子从蒸发源表面溢出,在飞向基片表面过程中很少碰到其他例子(主要是残余气体分子)的碰撞阻碍,直接到达基材表面上凝结而生成薄膜。
一般真空电镀在民用工业的装饰膜和包装膜中应用较多。例如:汽车、灯具、玩具、交通工具、家用电器用具、工艺美术品、日用小商品、手机边框、化妆品及其他一些包装类产品上。
PVD前的电镀打底出现麻点的原因分析:
真空电镀前水镀的作用:
电镀打底可以实现很好的金属质感,也改善了其在电、热及耐蚀等方面的性能,提高了其表面机械强度。电镀要综合考虑材料的加工性能、机械性能、材料成本、电镀成本、电镀的难易程度以及尺寸精度等因素。
镀铜容易产生麻点。阳极板含磷低,溶解不良,容易产生氧化亚铜颗粒,这是麻点的一个来源。阳极板含磷太高,液面形成一圈黑油,也会形成麻点。适当的磷含量(质量分数)应该是0.04%~0.06%。光亮剂失调(比如,表面活性剂或S类光亮剂少)、光亮剂分解产物多都会形成麻点,要小心控制,并及时电解处理和定期用活性炭处理:氯根高也是麻点的一个原因,可以用碳酸银处理。
麻点的另一个原因是溶液中的固体颗粒。因而对过滤越来越重视,更多的前处理溶液应要求过滤,过滤机的每小时循环次数越来越多。同时清洗水质要求越来越高,更多地用纯水,以防硬水带来的固体颗粒。车间也应重视防尘。但是,没有一种办法有立杆见影的效果,因而办法在不断变化中;麻点一直还是电镀必须面对的一个难题。
以上信息由专业从事真空电镀公司的瑞泓科技于2024/4/23 7:55:31发布
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